顶点光电子商城2024年4月18日消息：近日，ASML公司宣布发货了其第二台High NA EUV光刻机，这一成就不仅证明了ASML在高端光刻技术领域的持续领先地位，也进一步推动了半导体行业的技术革新。与此同时，该公司还宣布其首台High NA EUV光刻机已成功印刷出10纳米线宽图案，这是整个高数值孔径EUV光刻技术领域的一项重大里程碑。

          High NA EUV光刻机是ASML在光刻技术领域的最新创新，其采用了高数值孔径的投影光学系统，使得光刻机能够制造出更高密度的芯片，为半导体行业的未来发展打开了新的可能性。而成功印刷出10纳米线宽图案，则进一步证明了这一技术的实际可行性和应用前景。

           第二台High NA EUV光刻机的发货，意味着这一技术正在逐步被市场接受并应用于实际生产中。尽管ASML对买家的身份保持神秘，但业界普遍猜测，可能是英特尔、台积电和三星等顶尖的半导体公司。这些公司一直在寻找能够提高芯片制造效率和精度的技术，而High NA EUV光刻机无疑是他们的理想选择。

           值得一提的是，每台High NA EUV光刻机的价格高达3亿至3.5亿欧元，这无疑证明了其在高端光刻机市场的独特价值和竞争力。尽管价格高昂，但由于其带来的巨大技术优势和商业价值，使得许多公司都愿意投入巨资进行采购。

           总的来说，ASML发货第二台High NA EUV光刻机并成功印刷10纳米线宽图案，是半导体行业技术革新的重要里程碑。这不仅证明了ASML在高端光刻技术领域的领先地位，也预示着整个半导体行业将迎来更加美好的未来。我们期待看到更多的技术创新和应用，推动半导体行业的持续进步和发展。