顶点光电子商城2025年9月3日消息：近日，SK海力士宣布，成功引进存储器业界首台量产型高数值孔径极紫外光刻机（High NA EUV），设备型号为荷兰ASML公司生产的TWINSCAN EXE:5200B，并已将其部署至韩国利川M16工厂，同时举行了设备入厂庆祝仪式。

         现有EUV设备NA值为0.33，而High NA EUV设备提升至0.55，光学性能提升40%。NA值增大意味着透镜汇聚光线能力增强，可绘制更微细的电路图案，精密度提升1.7倍，集成度提升2.9倍。

         High NA EUV设备可实现比现有EUV系统小1.7倍的晶体管刻蚀，同时晶体管密度提高2.9倍。这将简化现有EUV工艺流程，加速下一代半导体存储器的研发进程，降低生产成本并提升产品性能。

          SK海力士表示，此次设备引进将为快速开发并供应满足客户需求的尖端产品奠定基础，同时通过与ASML等合作伙伴的紧密协作，提升全球半导体供应链的可靠性和稳定性。

          SK海力士计划通过High NA EUV设备的应用，简化现有工艺流程，加快研发速度，从而在产品性能和成本控制方面保持竞争力。此举不仅有助于满足市场对高性能存储器的需求，还将推动半导体制造技术向更微细化和高集成度方向发展。