欢迎光临顶点光电子商城!专业的光电器件与集成电路采购平台!
您好,请登录 免费注册
首页 > 资讯中心 > 行业资讯 > 德州仪器发布DLP991UUV,推动无掩膜光刻技术
德州仪器发布DLP991UUV,推动无掩膜光刻技术

       顶点光电子商城2025年10月9日消息:近日,德州仪器(TI)推出其最新工业数字微镜器件DLP991UUV,专为先进封装和无掩膜光刻(LDI)技术打造。该设备具备4096×2176分辨率,约890万个微镜排列,微镜间距仅为5.4微米,微镜阵列对角线尺寸为0.99英寸,支持343至410纳米的紫外光波段。


德州仪器发布DLP991UUV,推动无掩膜光刻技术(图1)

       DLP991UUV通过调制入射光的幅度、方向和相位,实现亚微米级的图案化精度,尤其适用于对高精度要求且需降低成本的先进封装领域。其无掩膜设计可根据材料表面的实时状态灵活调整图案,显著提升工艺调优速度并消除掩膜更换带来的时间与成本负担。


           配合DLPC964控制器,DLP991UUV支持超高速流式数据传输,满足3D打印和半导体制造等领域对大尺寸构件和超精细分辨率的需求。此外,DLP991UUV还广泛应用于高光谱成像、工业检测和机器视觉,助力推动各行业的智能制造升级。