顶点光电子商城2024年3月6日消息：近日，美光科技公司计划率先采用佳能的纳米压印光刻机技术，以进一步降低生产DRAM存储芯片的单层成本。这一决策标志着纳米印刷技术在半导体生产领域的应用取得了重要进展。

          纳米压印光刻技术是一种先进的制造技术，具有高精度、高效率和高可靠性等特点。与传统的光学光刻技术相比，纳米压印光刻技术能够以更低的成本实现更高分辨率的图案转移，从而有效降低DRAM生产过程中的成本。

          美光公司在演讲中详细介绍了将纳米印刷技术应用于DRAM生产的一些细节。他们指出，随着DRAM节点的不断缩小和沉浸式光刻分辨率的问题，添加更多的曝光步骤来取出密集存储器阵列外围的虚假结构变得越来越困难。而纳米印刷技术可以以更精细的方式打印出这些图案，有效解决了这一问题。

           尽管纳米印刷技术并不能在内存芯片生产的所有阶段取代传统的光刻技术，但它在降低单个技术操作的成本方面具有重要意义。美光公司表示，纳米印刷技术应用成本仅为沉浸式光刻技术的五分之一，这将有助于降低DRAM芯片的整体生产成本，提高公司的竞争力。 

          总之，美光计划采用佳能的纳米压印光刻机技术，以降低DRAM生产成本。这一决策将为半导体生产领域带来新的技术突破，推动行业的发展和进步。